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Auteur:  Averty
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Besland, M. P., Borderon, C., Barroy, P. R. J., Le Tacon, S., Richard-Plouet, M., Averty, D., Tessier, P. Y., Gundel, H. W., Brohan, L. & Djouadi, M. A. (2008) Improvement of dielectric properties of BLT thin films deposited by magnetron sputtering - art. no. 012006. Finnis, M. W., Hoffmann, M. J. & GautierSoyer, M. (Eds.), Interfacial Nanostructures in Ceramics: A Multiscale Approach Bristol.   
Last edited by: Richard Baschera 2016-11-30 15:17:41 Pop. 0.75%
Besland, M. P., Borderon, C., Cavellier, M., Le Tacon, S., Richard-Plouet, M., Albertini, D., Averty, D., Tessier, P. Y., Gundel, H. W., Brohan, L. & Djouadi, M. A. (2007) Two step reactive magnetron sputtering of BLT thin films. Integr. Ferroelectr. 94 94–104.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 22:02:31 Pop. 1%
Challali, F., Besland, M. P., Benzeggouta, D., Borderon, C., Hugon, M. C., Salimy, S., Saubat, J. C., Charpentier, A., Averty, D., Goullet, A. & Landesman, J. P. (2010) Investigation of BST thin films deposited by RF magnetron sputtering in pure Argon. Thin Solid Films, 518 4619–4622.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 0.5%
Duquenne, C., Besland, M. .-P., Tessier, P. Y., Gautron, E., Scudeller, Y. & Averty, D. (2012) Thermal conductivity of aluminium nitride thin films prepared by reactive magnetron sputtering. J. Phys. D-Appl. Phys. 45 015301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:40 Pop. 0.5%
Salimy, S., Challali, F., Goullet, A., Besland, M. .-P., Carette, M., Gautier, N., Rhallabi, A., Landesman, J. P., Toutain, S. & Averty, D. (2013) Electrical Characteristics of TiTaO Thin Films Deposited on SiO2/Si Substrates by Magnetron Sputtering. ECS Solid State Lett. 2 Q13–Q15.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32 Pop. 0.5%
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