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Auteur:  Challali
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Challali, F., Besland, M. P., Benzeggouta, D., Borderon, C., Hugon, M. C., Salimy, S., Saubat, J. C., Charpentier, A., Averty, D., Goullet, A. & Landesman, J. P. (2010) Investigation of BST thin films deposited by RF magnetron sputtering in pure Argon. Thin Solid Films, 518 4619–4622.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:37:32 Pop. 1%
Rouahi, A., Kahouli, A., Challali, F., Besland, M. P., Vallee, C., Yangui, B., Salimy, S., Goullet, A. & Sylvestre, A. (2013) Impedance and electric modulus study of amorphous TiTaO thin films: highlight of the interphase effect. J. Phys. D-Appl. Phys. 46 065308.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:31 Pop. 1%
Rouahi, A., Challali, F., Dakhlaoui, I., Vallee, C., Salimy, S., Jomni, F., Yangui, B., Besland, M. P., Goullet, A. & Sylvestre, A. (2016) Structural and dielectric characterization of sputtered Tantalum Titanium Oxide thin films for high temperature capacitor applications. Thin Solid Films, 606 127–132.   
Last edited by: Richard Baschera 2016-06-03 13:58:09 Pop. 1%
Rouahi, A., Kahouli, A., Challali, F., Besland, M. P., Vallee, C., Pairis, S., Yangui, B., Salimy, S., Goullet, A. & Sylvestre, A. (2012) Dielectric relaxation study of amorphous TiTaO thin films in a large operating temperature range. J. Appl. Phys. 112 094104.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38 Pop. 0.75%
Salimy, S., Challali, F., Goullet, A., Besland, M. .-P., Carette, M., Gautier, N., Rhallabi, A., Landesman, J. P., Toutain, S. & Averty, D. (2013) Electrical Characteristics of TiTaO Thin Films Deposited on SiO2/Si Substrates by Magnetron Sputtering. ECS Solid State Lett. 2 Q13–Q15.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32 Pop. 0.75%
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