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Auteur:  Poucques
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Belmahi, M., Bulou, S., Thouvenin, A., de Poucques, L., Hugon, R., Le Brizoual, L., Miska, P., Geneve, D., Vasseur, J.-L. & Bougdira, J. (2014) Microwave Plasma Process for SiCN:H Thin Films Synthesis with Composition Varying from SiC:H to SiN:H in H-2/N-2/Ar/Hexamethyldisilazane Gas Mixture. Plasma Process. Polym. 11 551–558.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:01:56 Pop. 0.25%
Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., de Poucques, L., Hugon, R., Belmahi, M. & Bougdira, J. (2011) The influence of CH4 addition on composition, structure and optical characteristics of SiCN thin films deposited in a CH4/N-2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Thin Solid Films, 520 245–250.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:32:19 Pop. 0.25%
Bulou, S., Le Brizoual, L., Miska, P., de Poucques, L., Bougdira, J. & Belmahi, M. (2012) Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H-2/N-2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Surf. Coat. Technol. 208 46–50.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:28:38 Pop. 0%
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