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Auteur:  Beck
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Landesman, J. P., Levallois, C., Jimenez, J., Pommereau, F., Leger, Y., Beck, A., Delhaye, T., Torres, A., Frigeri, C. & Rhallabi, A. (2015) Evidence of chlorine ion penetration in InP/InAsP quantum well structures during dry etching processes and effects of induced-defects on the electronic and structural behaviour. Microelectron. Reliab. 55 1750–1753.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 18:36:41 Pop. 1%
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