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Auteur:  Chanson
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Bouchoule, S., Chanson, R., Pageau, A., Cambril, E., Guilet, S., Rhallabi, A. & Cardinaud, C. (2015) Surface chemistry of InP ridge structures etched in Cl-2-based plasma analyzed with angular XPS. J. Vac. Sci. Technol. A, 33 05E124.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 18:36:41 Pop. 0.5%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardinaud, C. & Landesman, J. P. (2013) Modeling of inductively coupled plasma Ar/Cl-2/N-2 plasma discharge: Effect of N-2 on the plasma properties. J. Vac. Sci. Technol. A, 31 011301.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:32 Pop. 0.5%
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C. & Cardinaud, C. (2013) Modeling of InP Etching Under ICP Cl2/Ar/N2 Plasma Mixture: Effect of N2 on the Etch Anisotropy Evolution. Plasma Process. Polym. 10 213–224.   
Added by: Laurent Cournède 2016-03-10 21:23:31 Pop. 0.5%
Chanson, R., Bouchoule, S., Cardinaud, C., Petit-Etienne, C., Cambril, E., Rhallabi, A., Guilet, S. & Blanquet, E. (2014) X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl-2-based inductively coupled plasma. J. Vac. Sci. Technol. B, 32 011219.   
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:45 Pop. 0.5%
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