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Collection: J. Vac. Sci. Technol. B

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Chanson, R., Bouchoule, S., Cardinaud, C., Petit-Etienne, C., Cambril, E., Rhallabi, A., Guilet, S. & Blanquet, E. (2014) X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl-2-based inductively coupled plasma. J. Vac. Sci. Technol. B, 32 011219.
Added by: Florent Boucher 2016-04-29 09:26:45	Pop. 1%
Eon, D., Raballand, V., Cartry, G., Cardinaud, C., Vourdas, N., Argitis, P. & Gogolides, E. (2006) Plasma oxidation of polyhedral oligomeric silsesquioxane polymers. J. Vac. Sci. Technol. B, 24 2678–2688.
Added by: Florent Boucher 2016-05-12 13:21:36	Pop. 1%
Godet, L., Fang, Z., Radovanov, S., Walther, S., Arevalo, E., Lallement, F., Scheuer, J. T., Miller, T., Lenoble, D., Cartry, G. & Cardinaud, C. (2006) Plasma doping implant depth profile calculation based on ion energy distribution measurements. J. Vac. Sci. Technol. B, 24 2391–2397.
Added by: Florent Boucher 2016-05-12 13:21:36	Pop. 1%
Sarrazin, A., Posseme, N., Pimenta-Barros, P., Barnola, S., Gharbi, A., Argoud, M., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2016) PMMA removal selectivity to polystyrene using dry etch approach. J. Vac. Sci. Technol. B, 34 061802.
Last edited by: Richard Baschera 2017-02-02 13:48:42	Pop. 1%
Sarrazin, A., Posseme, N., Pimenta-Barros, P., Barnola, S., Tiron, R. & Cardinaud, C. (2019) New CH4-N-2 dry etch chemistry for poly(methyl methacrylate) removal without consuming polystyrene for lamellar copolymers application. J. Vac. Sci. Technol. B, 37 030601.
Last edited by: Richard Baschera 2019-11-29 12:41:07	Pop. 1%